Principles of Lithography, Fourth Edition

  • Main
  • Principles of Lithography, Fourth...

Principles of Lithography, Fourth Edition

Levinson, Harry J.
0 / 0
0 comments
Jak bardzo podobała Ci się ta książka?
Jaka jest jakość pobranego pliku?
Pobierz książkę, aby ocenić jej jakość
Jaka jest jakość pobranych plików?
Rok:
2019
Wydanie:
4
Wydawnictwo:
SPIE--The International Society for Optical Engineering
Język:
english
Strony:
630
ISBN 10:
1510627634
ISBN 13:
9781510627604
ISBN:
2019000488
Plik:
PDF, 36.50 MB
IPFS:
CID , CID Blake2b
english, 2019
Ściągnij (pdf, 36.50 MB)
  • Checking other formats...
    • Odblokuj konwersję plików większych niż 8 MBPremium
    Trwa konwersja do
    Konwersja do nie powiodła się

    Najbardziej popularne frazy

     
    lithography
    resist
    wafer
    optical
    proc
    spie
    lens
    figure
    overlay
    electron
    euv
    systems
    resists
    focus
    alignment
    features
    optics
    illumination
    errors
    masks
    reticle
    edge
    wavelength
    laser
    wafers
    imaging
    lenses
    discussed
    shown
    materials
    step
    stepper
    intensity
    linewidth
    tools
    photoresist
    effects
    error
    measurement
    typically
    scan
    steppers
    depth
    feature
    scanning
    patterning
    required
    wavelengths
    reduction
    technology
    diffraction
    excimer
    projection
    aperture
    substrate
    smaller
    immersion
    lithographic
    sources
    surface